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半導體超純水設備用水水質標準
| 作者：guanli 日期：2020/4/27 17:34:52 |
半導體超純水設備水質標準半導體超純水設備是用于清洗半導體生產部件的設備，需要符合特定的水質標準。以下是具體介紹。
水質標準：
出水水質應符合美國ASTM純水質量標準、中國電子工業電子級水質技術標準（18mΩ）。厘米，15米Ω。厘米，10兆歐。厘米，2兆歐。厘米，0.5兆歐。中國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備制備工藝：
1.預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混床→精混床→純水水箱→純水泵→紫外線******器→拋光混床→精密過濾器→水點（≥18mΩ）。Cm）
2.預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線******器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→水點（≥18mΩ）。Cm）
3.預處理→一級反滲透→加藥機（pH調節）→中間水箱→二級反滲透（正電荷反滲透膜）→純水水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線******器→0.2或0.5μm精密過濾器→水點（≥17mΩ）。Cm）
4.預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水水箱→純水泵→紫外線******器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15mΩ）。Cm）
5.預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混床→精混床→紫外線******器→精密過濾器→水點（≥15mΩ。Cm）
半導體超純水設備的應用領域：
電解電容器生產用鋁箔及工作部件的清洗。
電子管、顯像管、陰極射線管生產配料用純水。
純水用于熒光屏生產、玻璃外殼清洗、沉淀、潤濕、膜清洗和黑白顯像管頸部清洗。
液晶顯示器的屏幕應使用純水清洗，并與純水混合。純水主要用于晶體管生產中硅片的清洗。
集成電路生產中的高純水清洗硅片。
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水。
半導體材料、晶體材料的生產、加工、清洗。品質較高的顯像管，熒光粉生產。
汽車、家用電器表面拋光。
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